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低频放电

低频放电的频率一般在50～500KHz，其原理是在电极间利用低频电场激发产生等离子体，这种方式在材料表面改性中大量应用。低频放电由于交流电场作用，其放电电压远低于直流放电，并且随着频率的提高放电电压和维持电压降低，低频放电的放电模式与频率相关，频率较低时，和直流辉光放电类似，此时电子和离子移动距离短，电离度低；当频率提高到一定数值，电子和离子在电极间振荡运动，移动行程增大，与气体分子发生碰撞的机率增大，电离度提高。目前市面所售的等离子清洗设备有低频放电方式，频率为40KHz，低频放电符合辉光放电的特性，与射频放电相比，电流很小，不存在阻抗匹配的问题，结构简单，多为电容耦合结构，因此电极的二次污染问题仍然存在。